熒光式光纖溫度傳感器具有極長的壽命和穩(wěn)定可靠的工作特性，非常適合于大規(guī)模工業(yè)化批量生產(chǎn)，從而迅速實現(xiàn)工業(yè)領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用。熒光光纖溫度傳感器是由多模光纖和在其頂部安裝的熒光物體(膜)組成。熒光物質(zhì)在受到一定波長(受激譜)的光激勵后，受激輻射出熒光能量。激勵撤消后，熒光余暉的持續(xù)性取決于熒光物質(zhì)特性、環(huán)境溫度等因素。這種受激發(fā)熒光通常是按指數(shù)方式衰減的，稱衰減的時間常數(shù)為熒光壽命或熒光余暉時間。在不同的環(huán)境溫度下，熒光余暉衰減也不同。因此通過測量熒光余暉壽命的長短，就可以得知當時的環(huán)境溫度。在強電磁場下，用常規(guī)溫度傳感器(如熱電偶、熱電阻等)測量時，金屬材料制作的測量探頭及導線在高頻電磁場下產(chǎn)生感應(yīng)電流，由于集膚效應(yīng)和渦流效應(yīng)，使其自身溫度升高，對溫度測量造成嚴重干擾，使溫度示值產(chǎn)生很大誤差或者無法進行穩(wěn)定的溫度測量。熒光光纖溫度傳感技術(shù)目前已經(jīng)成熟，已經(jīng)實現(xiàn)大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)及應(yīng)用，成本快速下降，其在強電磁場環(huán)境測量領(lǐng)域優(yōu)勢明顯。

光刻機作為集成電路制造過程中的核心設(shè)備,其發(fā)展狀況一定程度上決定集成電路的發(fā)展程度,研發(fā)出更高光刻分辨率、更高產(chǎn)率、更精密套刻精度的光刻機一直是世界各國微電子裝備行業(yè)不斷追求的目標。光刻機性能的不斷提高,是由軟件、控制、曝光、工件臺、微環(huán)境等十多個分系統(tǒng)的共同發(fā)展所決定的,其中對光刻機內(nèi)部和投影物鏡溫度的控制就是其中一項非常重要的需求指標,精密溫度控制裝置就是用來控制光刻機這項重要指標的設(shè)備。而光刻機工作環(huán)境下，溫度穩(wěn)定是保證整機系統(tǒng)精度的關(guān)鍵條件，而高精度的溫度測量是控制溫度穩(wěn)定的前提，與穩(wěn)定性有直接的關(guān)系。